Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроникиКНИГИ » ЕСТЕСТВЕННЫЕ НАУКИ
Название: Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники Автор: Кузнецов Ф.А. Издательство: Новосибирск: Сибирское отделение РАН Год: 2013 Формат: pdf Страниц: 176 Размер: 50 mb Язык: Русский
В монографии представлены результаты развития процессов химического осаждения из газовой фазы металлических и диэлектрических пленок с использованием нетрадиционных летучих исходных соединений, а именно, комплексных соединений металлов и кремнийорганических соединений, синтезируемых в ИНХ СО РАН и ИрИХ СО РАН. Рассматриваются результаты исследования физико-химических свойств исходных соединений. Изложены принципы выбора исходных соединений, основанные на исследовании их термодинамических свойств и термодинамическом моделировании MO CVD процессов. Получены и исследованы наиболее важные для современной электроники и наноэлектроники материалы: металлические пленки (Cu, Ni, Ru, Ir), диэлектрические пленки с высоким (high-k) и низким (low-k) значением диэлектрической проницаемости. Изучены химический, фазовый состав и структура простых и сложных оксидов на основе HfO2 (high-k диэлектрики), а также карбонитридов бора, карбонитридов и оксикарбонитридов кремния (low-k диэлектрики).
Получение тугоплавких соединений из газовой фазы Название: Получение тугоплавких соединений из газовой фазы Автор: Вадим Михайлович Криворучко Издательство: М., Атомиздат Год: 1976 Страниц: 120...
Практикум по органической химии (2015) Название: Практикум по органической химии Автор: Теренин В.И., Ливанцов М.В., Ливанцова Л.И. и др. Издательство: Бином. ЛЗ Год: 2015 Страниц: 570...
Плазменная технология в производстве СБИС PDF Название: Плазменная технология в производстве СБИС PDF Автор: Айнспрук Н. Браун Д. Издательство: Москва, МИР Год: 1987 Страниц: 471 Формат: PDF...
Физические процессы при напылении наночастиц Название: Физические процессы при напылении наночастиц Автор: Павлючко А.И., Прокофьева Н.И., Панфилова М.И. Издательство: М.: НИУ МГСУ Год: ...
Химия и технология фтористых соединений урана Название: Химия и технология фтористых соединений урана Автор: Н. П. Галкин, А. А. Майоров, У. Д. Верятин и др Издательство: ГосАтомИздат Год: 1961...
Теория гидрометаллургических процессов Название: Теория гидрометаллургических процессов Автор: Вольдман Г.М., Зеликман А.Н. Издательство: Металлургия Год: 1989 Формат: PDF Размер: 35.4...
Навигация
Вход на сайт
Реклама
Фундаментальные основы процессов химического осаждения пленок и структур для наноэлектроники 
